申请/专利权人：深圳市龙图光电有限公司

申请日：2020-07-31

公开（公告）日：2021-02-09

公开（公告）号：CN212515346U

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.02.09#授权

摘要：本实用新型属于掩模版制造领域，尤其涉及一种曝光定位装置，包括定位结构本体，定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，贴合面为平面且与支撑平面相贴合，贴合面开设有气压汇集槽，气压汇集槽与各吸孔均连通，安置面开设用于供环形掩模版放置的安置槽，安置槽的槽底为平面，且平行于贴合面，安置槽的截面形状与环形掩模版的外环形状相匹配，安置槽的槽底开设有多个引气孔，各引气孔均连通至气压汇集槽，各引气孔均与环形掩模版相对设置。本实用新型解决了技术中对环形掩模版的定位容易存在吸力不足的问题，进而避免环形掩模版上的掩模图像错位，提高环形掩模版上的掩模图像质量。

主权项：1.一种曝光定位装置，用于对环形掩模版进行定位，并与定位平台配合使用，其中，所述定位平台具有朝上设置的支撑平面，所述支撑平面开设有多个吸孔，其特征在于，所述曝光定位装置包括定位结构本体，所述定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，所述贴合面为平面且与所述支撑平面相贴合，所述贴合面开设有气压汇集槽，所述气压汇集槽与各所述吸孔均连通，所述安置面开设用于供所述环形掩模版放置的安置槽，所述安置槽的槽底为平面，且平行于所述贴合面，所述安置槽的截面形状与所述环形掩模版的外环形状相匹配，所述安置槽的槽底开设有多个引气孔，各所述引气孔均连通至所述气压汇集槽，各所述引气孔均与所述环形掩模版相对设置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市龙图光电有限公司 曝光定位装置

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