申请/专利权人：深圳摩方新材科技有限公司

申请日：2019-11-06

公开（公告）日：2021-02-12

公开（公告）号：CN112368127A

主分类号：B29C64/124(20060101)

分类号：B29C64/124(20060101)

优先权：["20181210 US 62/777353"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.02#授权;2021.03.05#实质审查的生效;2021.02.12#公开

摘要：以特定的分离距离，通常在10微米的公差范围，确定两个基板上的平行表面。一个表面是硬窗的透明膜的表面。由透明窗或硬窗与另一个表面的距离所界定的间隙可以用于精确控制投影微立体光刻中各层的尺寸。

主权项：1.一种用于将第一基板的第一表面相对于第二基板的表面定位的方法，其中所述第二基板是透明的，该方法包括：定位第一基板和一个系统，该系统包括：具有光轴的透镜；能够执行或协助执行自动聚焦程序的电荷耦合器件（CCD）；以及具有发射向量的位移传感器，其方式为：透镜位于第一基板的表面和CCD之间，透镜的光轴与第一基板的表面相交，位移传感器具有平行于光轴的发射向量，并且CCD沿着透镜可聚焦光轴，依次将第一基板表面上的三个非线性点与位移传感器的发射向量对齐，在每个选定点测量位移传感器与表面之间的距离，调整基板，以使位移传感器与这三个点中的每一个的距离都相同，以建立一个一级表面，将第二基板放置在第一基板和位移传感器之间，依次将第二基板表面上的三个非线性点与位移传感器的发射向量对齐，在每个选定点测量位移传感器与表面之间的距离调整基板，使位移传感器与三个点中的每个点之间的距离相同，以生成与一级表面平行的表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳摩方新材科技有限公司 投影微立体光刻技术中控制尺寸的方法

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