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【发明公布】基于双目光栅投影的三维测量方法、系统、设备及其介质_常州微亿智造科技有限公司_202311630144.0 

申请/专利权人:常州微亿智造科技有限公司

申请日:2023-12-01

公开(公告)日:2023-12-29

公开(公告)号:CN117315003A

主分类号:G06T7/62

分类号:G06T7/62;G06T5/00;G06T7/593;G06T17/00;G01B11/25;G01B11/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.01.16#实质审查的生效;2023.12.29#公开

摘要:本发明涉及三维测量技术领域,尤其涉及一种基于双目光栅投影的三维测量方法、系统、设备及其介质。方法包括:通过双目相机获取左右视场图像,处理后,通过极限校正得到校正后的相位图;对校正后的相位图多阶降采样,得到相位降采样图;基于相位降采样图通过构建的第一代价结构体计算低阶相位视差值,获得低阶相位视差图;基于低阶相位视差图通过建立的视差关系以及插值法得到高阶相位视差图;根据高阶相位视差图上的视差值确定校正后的相位图上的搜索匹配范围,构建第二代价结构体进行立体匹配,获得图像的匹配视差图;基于视差图进行点云坐标计算,对图像中的目标物进行三维重构。本发明三维测量重构时内存消耗小,提高了测量时间以及测量效率。

主权项:1.一种基于双目光栅投影的三维测量方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,立体校正,通过双目相机获取左右视场图像,解算所述左右视场图像对应的左右视场解包裹相位图,对所述左右视场解包裹相位图进行立体校正,得到左右视场校正后的相位图;S2,多阶降采样,对所述左右视场校正后的相位图进行多阶降采样,得到左右视场相位降采样图;S3,低阶相位视差的计算,基于所述左右视场相位降采样图通过构建的第一代价结构体计算左右视场低阶相位视差值,获得左右视场低阶相位视差图;S4,高阶相位视差的预测,基于所述左右视场低阶相位视差图,通过建立的视差关系预测左右视场高阶相位视差图,基于插值法对预测的左右视场高阶相位视差图插值处理,得到左右视场高阶相位视差图;S5,立体匹配,根据所述左右视场高阶相位视差图上的视差值确定所述左右视场校正后的相位图上的搜索匹配范围,并构建第二代价结构体进行立体匹配,获得所述左右视场图像的匹配视差图;S6,点云计算,基于所述视差图进行点云坐标计算,根据计算的所有所述点云坐标对所述图像中的目标物进行三维重构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 常州微亿智造科技有限公司 基于双目光栅投影的三维测量方法、系统、设备及其介质

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