申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-06-17

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：CN117677902A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20210720 EP 21186587.8"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.08#公开

摘要：一种用于光刻工具的方法，包括：相对于第一微透镜阵列MLA和第二MLA来扫描衬底，第一微透镜阵列MLA和第二MLA中的每个具有多行小透镜。所述第一MLA具有功能性小透镜和额外的小透镜，并且所述扫描包括经由所述第一MLA和所述第二MLA的所述小透镜将光传递至所述衬底。所述传递包括：经由所述功能性小透镜传递光以在所述衬底上形成图案，所述图案具有由所述第一MLA与所述第二MLA的所述功能性小透镜之间的位置错位或旋转错位引起的间隙。所述传递也包括经由所述额外的小透镜传递光以填充所述图案中的所述间隙。

主权项：1.一种用于光刻工具的方法，所述方法包括：相对于第一微透镜阵列MLA和第二MLA来扫描衬底，第一微透镜阵列MLA和第二MLA中的每个具有多行小透镜，其中，所述第一MLA具有功能性小透镜和额外的小透镜，其中，所述扫描包括经由所述第一MLA和所述第二MLA的所述小透镜将光传递至所述衬底，所述传递包括：经由所述功能性小透镜传递光以在所述衬底上形成图案，所述图案具有由所述第一MLA与所述第二MLA的所述功能性小透镜之间的位置错位或旋转错位引起的间隙，以及通过所述额外的小透镜传递光以填充所述图案中的所述间隙。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于具有增加的公差的光刻工具的系统和方法

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