申请/专利权人：全芯智造技术有限公司

申请日：2023-11-30

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN117389108B

主分类号：G03F1/36

分类号：G03F1/36;G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权;2024.01.30#实质审查的生效;2024.01.12#公开

摘要：根据本公开的示例实施例提供了用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质。在该方法中，基于掩模制造约束和与光学邻近效应修正中对图形片段的移动有关的移动距离信息，从待修正的目标版图包括的多个可移动片段中确定多个目标片段。多个目标片段被划分到至少一个片段组中。进一步地，基于多个目标片段中的每对目标片段是否属于同一片段组来生成约束影响信息。针对多个目标片段中的每对目标片段，约束影响信息指示该对目标片段中的一个目标片段的移动对另一目标片段是否违反掩模制造约束的影响。此外，基于约束影响信息来确定多个可移动片段的用于光学邻近效应修正的相应目标移动距离。以此方式，可以有效地提高光学邻近效应修正的效率和质量。

主权项：1.一种用于光学邻近效应修正的方法，其特征在于，所述方法包括：基于掩模制造约束和与光学邻近效应修正中对图形片段的移动有关的移动距离信息，从待修正的目标版图包括的多个可移动片段中确定多个目标片段，所述多个目标片段被划分到至少一个片段组中，其中所述多个可移动片段中的每个可移动片段是所述目标版图中的图形的一部分，并且能够在针对所述目标版图的光学邻近效应修正中被移动；基于所述多个目标片段中的每对目标片段是否属于所述至少一个片段组中的同一片段组，生成约束影响信息，其中针对所述多个目标片段中的每对目标片段，所述约束影响信息指示该对目标片段中的一个目标片段的移动对另一目标片段是否违反所述掩模制造约束的影响；基于所述多个可移动片段的相应候选移动距离，确定曝光扰动强度，所述曝光扰动强度指示根据所述多个可移动片段的所述相应候选移动距离修正后的所述目标版图受光学邻近效应的影响程度；基于所述多个目标片段的相应候选移动距离、所述约束影响信息、以及与所述掩模制造约束有关的修正目标，确定约束扰动强度，所述约束扰动强度指示根据所述多个可移动片段的所述相应候选移动距离修正后的所述目标版图对所述修正目标的违反程度；基于所述曝光扰动强度和所述约束扰动强度，确定与所述多个可移动片段的所述相应候选移动距离相对应的成本；以及基于所述成本，确定所述多个可移动片段的用于所述光学邻近效应修正的相应目标移动距离。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 全芯智造技术有限公司 用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质

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