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【发明授权】用于钝化半导体元器件的玻璃和熔融焊料_肖特股份有限公司_202110274962.6 

申请/专利权人:肖特股份有限公司

申请日:2021-03-15

公开(公告)日:2024-03-15

公开(公告)号:CN113387583B

主分类号:C03C8/24

分类号:C03C8/24;C03C12/00;H01L21/56;H01L23/29

优先权:["20200313 DE 102020106946.4"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.15#授权;2023.01.24#实质审查的生效;2021.09.14#公开

摘要:本发明涉及一种用于钝化半导体元器件的玻璃和熔融焊料、该玻璃或熔融焊料用于钝化半导体元器件的用途、钝化的半导体元器件以及用于钝化半导体元器件的方法。

主权项:1.一种具有以摩尔%计的以下成分的熔融焊料, SiO2 15.0至30.0 Al2O3 0.5至8.0 B2O3 14.0至25.0 ZnO 40.0至65.0 MgO 0.1至8.0 其中,所述焊料包含至少1.0体积%的份额的含镁和铝的结晶添加剂;并且其中所述熔融焊料中的SiO2和ZnO的含量之和为至少73.0摩尔%。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 肖特股份有限公司 用于钝化半导体元器件的玻璃和熔融焊料

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