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【发明公布】快恢复二极管及其制备方法和IGBT模块_芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司_202311816195.2 

申请/专利权人:芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司

申请日:2023-12-27

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN117727800A

主分类号:H01L29/861

分类号:H01L29/861;H01L21/329;H01L25/18

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要:本申请实施例涉及一种快恢复二极管及其制备方法和IGBT模块,包括:N型阴极区;P型阳极区;N型漂移区,位于N型阴极区和P型阳极区之间,N型漂移区的掺杂浓度小于N型阴极区的掺杂浓度;P型阳极欧姆接触区,位于P型阳极区的远离N型阴极区的一侧,P型阳极欧姆接触区的掺杂浓度大于P型阳极区的掺杂浓度;凹槽,从P型阳极欧姆接触区的远离N型阴极区的一侧向内延伸至P型阳极区内部;阳极金属电极结构,覆盖P型阳极欧姆接触区并通过凹槽的侧壁与P型阳极区接触。由此,在实现更好欧姆接触的同时,兼顾了反向恢复速率。

主权项:1.一种快恢复二极管,其特征在于,包括:N型阴极区;P型阳极区;N型漂移区,位于所述N型阴极区和所述P型阳极区之间,所述N型漂移区的掺杂浓度小于所述N型阴极区的掺杂浓度;P型阳极欧姆接触区,位于所述P型阳极区的远离所述N型阴极区的一侧,所述P型阳极欧姆接触区的掺杂浓度大于所述P型阳极区的掺杂浓度;凹槽,从所述P型阳极欧姆接触区的远离所述N型阴极区的一侧向内延伸至所述P型阳极区内部;阳极金属电极结构,覆盖所述P型阳极欧姆接触区并通过所述凹槽的侧壁与所述P型阳极区接触。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 芯联越州集成电路制造(绍兴)有限公司 快恢复二极管及其制备方法和IGBT模块

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