申请/专利权人：PSK有限公司

申请日：2022-07-19

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117730404A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67

优先权：["20210728 KR 10-2021-0099318"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.19#公开

摘要：本发明提供一种处理基板的设备。处理基板的设备可包括：外壳，前述外壳具有处理基板的处理空间；视窗单元，前述视窗单元覆盖前述处理空间的上部，以便使前述处理空间密闭；支撑单元，前述支撑单元在前述处理空间中支撑基板；气体供应单元，前述气体供应单元包括向前述处理空间供应气体的喷嘴；以及等离子体单元，前述等离子体单元配置于前述处理空间的外部并使得从前述气体产生等离子体；而且，前述喷嘴包括：主体，前述主体形成有内部空间和将前述内部空间内的前述气体供应给前述处理空间的排出口；以及插入构件，前述插入构件插入于前述主体的上端。

主权项：1.一种基板处理设备，所述基板处理设备用于处理基板，所述基板处理设备包括：外壳，所述外壳具有处理基板的处理空间；视窗单元，所述视窗单元覆盖所述处理空间的上部，以便使所述处理空间密闭；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑基板；气体供应单元，所述气体供应单元包括向所述处理空间供应气体的喷嘴；以及等离子体单元，所述等离子体单元配置于所述处理空间的外部并使得从所述气体产生等离子体，所述喷嘴包括：主体，所述主体形成有内部空间和将所述内部空间内的所述气体供应给所述处理空间的排出口；以及插入构件，所述插入构件插入于所述主体的上端。

全文数据：

权利要求：

百度查询： PSK有限公司 基板处理设备

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