申请/专利权人：株式会社斯库林集团

申请日：2023-09-15

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747489A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/683;H01L21/687;H01L21/02

优先权：["20220921 JP 2022-150729"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明提供一种能够提高清洗后的基板的下表面的清洁度的基板清洗装置及基板清洗方法。基板清洗装置包括：上侧保持装置，对基板的外周端部进行保持；以及下表面刷，与基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗。下表面刷在与由上侧保持装置保持的基板的下表面接触的接触位置和与由上侧保持装置保持的基板分离一定距离的分离位置之间移动。在分离位置，下表面刷以第一旋转速度旋转。在接触位置，在下表面刷与基板的下表面接触的时间点及下表面刷与基板的下表面分离的时间点，下表面刷以比第一旋转速度高的第二旋转速度旋转。

主权项：1.一种基板清洗装置，包括：第一基板保持部，对基板的外周端部进行保持；清洗用具，与所述基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗；清洗用具旋转驱动部，使所述清洗用具绕上下方向上的轴旋转；以及清洗用具移动部，使通过所述清洗用具旋转驱动部旋转的所述清洗用具在接触位置与分离位置之间移动，所述接触位置是所述清洗用具与由所述第一基板保持部保持的所述基板的下表面接触的位置，所述分离位置是所述清洗用具与由所述第一基板保持部保持的所述基板的下表面分离一定距离的位置；所述清洗用具旋转驱动部在所述清洗用具处于所述分离位置时，使所述清洗用具以第一旋转速度旋转，当将在所述清洗用具从所述分离位置向所述接触位置移动的情况下处于和所述基板的下表面分离的状态的所述清洗用具与所述基板的下表面接触的时间点设为第一时间点、将在所述清洗用具从所述接触位置向所述分离位置移动的情况下处于与所述基板的下表面接触的状态的所述清洗用具和所述基板的下表面分离的时间点设为第二时间点时，在所述第一时间点及所述第二时间点中的至少一个时间点，使所述清洗用具以比所述第一旋转速度高的第二旋转速度旋转。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社斯库林集团 基板清洗装置及基板清洗方法

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