申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司

申请日：2024-01-02

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117806084A

主分类号：G02F1/1362

分类号：G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/1343;G02F1/1337

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本申请涉及一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法，包括衬底基板。在所述衬底基板上形成有第一绝缘层。在所述第一绝缘层上依次形成有第一钝化层、有机膜层以及第一导电层。在所述第一导电层上形成有第二钝化层，所述第二钝化层包括第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域依次相邻。在所述第一区域上形成有第一凹槽。在所述第一区域内形成有第二导电层；或者在所述第二区域内形成有第二导电层。本申请通过在第二钝化层上开设凹槽减小公共电极和像素电极的间距，从而增加横向电场，提高驱动电压，进而提升产品透光率。同时本申请的工艺程序也能够解决产品良率和产能低问题。

主权项：1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底基板；所述衬底基板上形成有第一绝缘层；所述第一绝缘层上依次形成有第一钝化层、有机膜层以及第一导电层；所述第一导电层上形成有第二钝化层，所述第二钝化层包括第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域依次相邻；所述第一区域内开设有第一凹槽，所述第一凹槽内形成有第二导电层；或者，所述第二区域内形成有第二导电层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法

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