申请/专利权人：四川新视创伟超高清科技有限公司

申请日：2024-01-16

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117579813B

主分类号：H04N17/00

分类号：H04N17/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2024.03.08#实质审查的生效;2024.02.20#公开

摘要：本发明提供一种焦深区域成像芯片位姿角度矫正方法及矫正系统，包括步骤S1：基于至少一种类型的矫正板获取待矫正成像芯片的比对图像；S2：基于构建的基准图像库对比对图像进行参数计算，得到参数值；S3：结合参数值和预设的选择条件选取所述待矫正成像芯片的位姿确定方法；S4：基于选择的所述待矫正成像芯片的位姿确定方法确定所述待矫正成像芯片的位姿矫正角度，根据所述位姿矫正角度完成所述待矫正成像芯片的位姿矫正，本发明构建了基准图像库，将待矫正成像芯片的比对图像与基准图像进行匹配，找出与比对图像完成匹配的基准图像，最终根据匹配的基准图像完成待矫正成像芯片的位姿矫正，纠正成像芯片的位姿误差，减小对后续高精度处理的影响。

主权项：1.一种焦深区域成像芯片位姿角度矫正方法，其特征在于，所述矫正方法包括以下步骤：S1：基于至少一种类型的矫正板获取待矫正成像芯片的比对图像；S2：基于构建的基准图像库对比对图像进行参数计算，得到参数值，其中，基准图像库是基于不同位姿角度下的样本成像芯片构建的，包括与样本成像芯片的位姿角度一一对应的基准图像；相关参数的计算步骤，包括：基于单一类型或者多种类型的矫正板，将同类型的比对图像的每个色块依次与基准图像库中所有基准图像中位置对应的色块进行匹配，得到每个基准图像中所有色块的匹配值；S3：结合参数值和预设的选择条件选取所述待矫正成像芯片的位姿确定方法；S4：基于选择的所述待矫正成像芯片的位姿确定方法确定所述待矫正成像芯片的位姿矫正角度，并根据所述位姿矫正角度完成所述待矫正成像芯片的位姿矫正。

全文数据：

权利要求：

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