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【发明授权】阵列基板、显示设备和制造阵列基板的方法_京东方科技集团股份有限公司_201980000679.5 

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

申请日:2019-05-20

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN112335067B

主分类号:H10K50/80

分类号:H10K50/80;H10K59/121;H10K59/12;G09F9/30

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.02#授权;2021.02.26#实质审查的生效;2021.02.05#公开

摘要:一种阵列基板,包括:柔性基底基板;缓冲层,其位于柔性基底基板上并且从显示区域连续地延伸至周边区域中,缓冲层包括实质上遍及显示区域延伸的第一部分和位于周边区域中的第二部分,第一部分和第二部分是整体层的部分;有机绝缘层,其实质上遍及但不限于显示区域延伸,并且位于缓冲层的远离柔性基底基板的一侧;无机绝缘层,其限于周边区域中并且位于缓冲层的远离柔性基底基板的一侧;平坦化层,其位于有机绝缘层的远离缓冲层的一侧;以及,多个发光元件,其位于平坦化层的远离有机绝缘层的一侧。

主权项:1.一种阵列基板,其具有显示区域和周边区域,包括:柔性基底基板;缓冲层,其位于所述柔性基底基板上并且从所述显示区域连续地延伸至所述周边区域中,所述缓冲层包括实质上遍及所述显示区域延伸的第一部分和位于所述周边区域中的第二部分,所述第一部分和所述第二部分是整体层的部分;所述缓冲层的材料为无机绝缘材料;有机绝缘层,其实质上遍及所述显示区域,并且位于所述缓冲层的远离所述柔性基底基板的一侧;所述有机绝缘层与所述周边区域的正投影不交叠;无机绝缘层,其限于所述周边区域中并且位于所述缓冲层的远离所述柔性基底基板的一侧;平坦化层,其位于所述有机绝缘层的远离所述缓冲层的一侧;以及多个发光元件,其位于所述平坦化层的远离所述有机绝缘层的一侧。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示设备和制造阵列基板的方法

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