申请/专利权人：细美事有限公司

申请日：2023-04-17

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117845171A

主分类号：C23C14/34

分类号：C23C14/34;C23C14/54

优先权：["20221004 KR 10-2022-0126196"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.09#公开

摘要：提供了薄膜形成装置及方法。薄膜形成装置包括：腔室，被配置成保持形成在腔室中的真空；沉积对象，被放置在腔室内部的设定位置处；溅射靶，被放置在腔室内部，并且包含用于沉积的微粒；气体供应模块，被配置成供应用于在腔室内部形成等离子体状态的气体；台阶覆盖控制模块，位于腔室内部，并且面对沉积对象；以及电压供应模块，位于腔室内部，并且被配置成向溅射靶供应电流，其中，沉积对象基于电流被沉积从溅射靶提供的微粒，以及其中，台阶覆盖控制模块被配置成通过经由重新定位动作调节朝向沉积对象运动的微粒的量来控制沉积对象的台阶覆盖。

主权项：1.一种薄膜形成装置，包括：腔室，被配置成保持形成在所述腔室中的真空；沉积对象，被放置在所述腔室内部的设定位置处；溅射靶，被放置在所述腔室内部，并且包含用于沉积的微粒；气体供应模块，被配置成供应用于在所述腔室内部形成等离子体状态的气体；台阶覆盖控制模块，位于所述腔室内部，并且面对所述沉积对象；以及电压供应模块，位于所述腔室内部，并且被配置成向所述溅射靶供应电流，其中，所述沉积对象基于所述电流被沉积从所述溅射靶提供的所述微粒，以及其中，所述台阶覆盖控制模块被配置成通过经由重新定位动作调节朝向所述沉积对象运动的所述微粒的量来控制所述沉积对象的台阶覆盖。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 细美事有限公司 薄膜形成装置及方法

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