申请/专利权人：悟劳茂材料公司

申请日：2021-09-03

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN114293145B

主分类号：C23C14/04

分类号：C23C14/04;C23C14/12;H10K71/16

优先权：["20201007 KR 10-2020-0129340"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2024.01.23#著录事项变更;2022.04.26#实质审查的生效;2022.04.08#公开

摘要：本发明涉及掩模支撑模板的制造方法、掩模支撑模板及框架一体型掩模的制造方法。本发明的掩模支撑模板的制造方法，该掩模支撑模板用于支撑OLED像素形成用掩模并将掩模对应至框架，所述方法包括以下步骤：a将掩模金属膜粘合到转移衬底；b在与粘合有转移衬底的掩模金属膜一面相对的另一面上形成副掩模图案；c将转移衬底剥离；d在形成有副掩模图案的掩模金属膜的另一面上形成隔板绝缘部，并将掩模金属膜的另一面以夹设隔板绝缘部的方式粘合在模板上；e在掩模金属膜的一面上缩减掩模金属膜的厚度；f通过在掩模金属膜的一面上形成主掩模图案来制造掩模。

主权项：1.一种掩模支撑模板的制造方法，该掩模支撑模板用于支撑OLED像素形成用掩模并将掩模对应至框架，所述方法包括以下步骤：a将掩模金属膜粘合到转移衬底；b在与粘合有转移衬底的掩模金属膜一面相对的另一面上形成副掩模图案；c将转移衬底剥离；d在形成有副掩模图案的掩模金属膜的另一面上形成隔板绝缘部，并将掩模金属膜的另一面以夹设隔板绝缘部的方式粘合到模板上；e通过在掩模金属膜的一面上形成主掩模图案来制造掩模。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 悟劳茂材料公司 掩模支撑模板的制造方法、掩模支撑模板及框架一体型掩模的制造方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD