申请/专利权人：苏州仕科泰新材料科技有限公司

申请日：2023-07-27

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN220746070U

主分类号：C23C14/56

分类号：C23C14/56;C23C14/50

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权

摘要：本实用新型公开了一种连续真空镀膜装置，涉及真空镀膜领域，其技术方案要点是：包括机体，机体上设置有转动盘和两个镀膜腔，两个镀膜腔固定连接且竖直滑动设置，转动盘上环形阵列有与入料槽对应的若干放置盘，放置盘顶端设置有密封部，密封部外周壁套设有密封环，入料槽内壁设置有与密封部对应的压紧面，入料槽还设置有朝向放置盘延伸的挤压部。本实用新型通过镀膜腔的入料槽与放置盘的密封部卡接，使得压紧面下压密封部发生一定形变，同时压紧面压紧密封部时，挤压部通过光的斜面与支撑部相互挤压，使得挤压部发生朝向密封部的形变，进而使得挤压部内壁与密封部外周壁挤压密封环，而且达到密封镀膜腔与放置盘的效果。

主权项：1.一种连续真空镀膜装置，包括机体1，其特征在于：所述机体1上设置有转动盘2以及以转动盘2轴线为中心对称的两个底端均开设有入料槽4的镀膜腔3，两个所述镀膜腔3固定连接且竖直滑动设置，所述转动盘2上环形阵列有与入料槽4对应的若干放置盘5，所述放置盘5顶端设置有密封部6，所述密封部6外周壁套设有密封环7，所述入料槽4内壁设置有与密封部6对应的压紧面8，所述入料槽4还设置有朝向放置盘5延伸的挤压部9，所述密封部6、压紧面8与挤压部9之间形成容纳腔，所述密封环7设置在容纳腔内。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州仕科泰新材料科技有限公司 连续真空镀膜装置

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