申请/专利权人：青岛制高点科技有限公司

申请日：2023-09-06

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN220724336U

主分类号：C23C16/455

分类号：C23C16/455

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.05#授权

摘要：本实用新型为一种真空离子镀膜用送气装置，涉及真空离子镀膜技术领域。技术特征包括混合腔结构，其具有进气口和出气口；所述进气口处连接有进气管道，所述进气管道与提供气体的气瓶连接；所述出气口处连接有出气管道，所述出气管道上设置多组支路管道；所述混合腔结构的进气口所在端还设置辅助加压机构，通过所述辅助加压机构向所述混合腔结构内施加气压以使所述混合腔结构的所述出气口端保持恒定送气气压。真空离子镀膜在将工作气体和反应气体输送至镀膜室中的过程中，以混合腔结构对气体进行预混合，使得气体混合充分均匀；并且辅助加压机构通过向混合腔结构施加气压，避免了由于气瓶内气体容量或气压过低而对镀膜质量带来的不利影响。

主权项：1.一种真空离子镀膜用送气装置，其特征在于，包括混合腔结构，其具有进气口1和出气口2；所述进气口1处连接有进气管道3，所述进气管道3与提供气体的气瓶连接；所述出气口2处连接有出气管道4，所述出气管道4上设置多组支路管道5；所述混合腔结构的进气口1所在端还设置辅助加压机构，通过所述辅助加压机构向所述混合腔结构内施加气压以使所述混合腔结构的所述出气口2端保持恒定送气气压。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 青岛制高点科技有限公司 一种真空离子镀膜用送气装置

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