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【发明授权】量子点墨水、量子点薄膜及其制备方法、显示基板_京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司_202180002236.7 

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司

申请日:2021-08-20

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN115996994B

主分类号:C09D11/30

分类号:C09D11/30

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2023.05.09#实质审查的生效;2023.04.21#公开

摘要:本申请提供了一种量子点墨水、量子点薄膜及其制备方法、显示基板,涉及显示技术领域,量子点墨水,包括:第一墨水,所述第一墨水至少包括量子点本体以及配位在所述量子点本体表面的配体,所述配体包括R1基团;第二墨水,所述第二墨水至少包括反应性化合物,且所述反应性化合物被配置为能够与R1基团相互作用,并使得量子点本体沉降成膜。该量子点墨水制备的量子点薄膜具有较好的成膜均匀性,从而提高由量子点薄膜制备的显示产品的显示效果。

主权项:1.一种量子点墨水,其中,包括:第一墨水,所述第一墨水至少包括量子点本体以及配位在所述量子点本体表面的配体,所述配体包括R1基团;所述R1基团包括带有巯基的基团或带有氨基的基团;第二墨水,所述第二墨水至少包括反应性化合物,且所述反应性化合物被配置为能够与R1基团相互作用,并使得所述量子点本体沉降成膜;所述反应性化合物包括多马来酰亚胺类化合物或多琥珀酰亚胺类化合物;所述第一墨水还包括第一溶剂,所述第二墨水还包括第二溶剂;其中,所述反应性化合物和R1基团相互作用之后的产物配位在所述量子点本体上,且所述产物不溶于所述第一溶剂和所述第二溶剂。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 量子点墨水、量子点薄膜及其制备方法、显示基板

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