申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-07-17

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN111819664B

主分类号：H01L21/3065

分类号：H01L21/3065;H05H1/46

优先权：["20180730 JP 2018-142855","20190610 JP 2019-108223"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2020.11.10#实质审查的生效;2020.10.23#公开

摘要：本发明提供一种具有能够载置被处理体的第一电极和与所述第一电极相对的第二电极的等离子体处理装置的控制方法，其具有：向所述第一电极供给偏置功率的步骤；和向所述第二电极供给负直流电压的步骤，所述负直流电压周期性地反复取第一电压值的第一状态和取绝对值小于所述第一电压值的第二电压值的第二状态，所述控制方法包括第一控制步骤，在与所述偏置功率的高频周期同步的信号的各周期内的部分期间，或者在所述偏置功率的传输路径上所测量的周期性地变动的参数的各周期内的部分期间施加所述第一状态的所述负直流电压，且与所述第一状态相连续地施加所述第二状态的所述负直流电压。

主权项：1.一种等离子体处理装置的控制方法，所述等离子体处理装置具有能够载置被处理体的第一电极和与所述第一电极相对的第二电极，所述控制方法的特征在于，具有：向所述第一电极供给偏置功率的步骤；和向所述第二电极供给负直流电压的步骤，所述负直流电压周期性地反复取第一电压值的第一状态和取绝对值小于所述第一电压值的第二电压值的第二状态，所述控制方法包括第一控制步骤，在与偏置功率的高频的周期同步的信号的各周期内的部分期间，或者在所述偏置功率的传输路径上所测量的周期性地变动的参数的各周期内的部分期间，施加所述第一状态的所述负直流电压，且与所述第一状态相连续地施加所述第二状态的所述负直流电压，在所述偏置功率为正峰值时，所述负直流电压为取所述第一电压值的所述第一状态，在所述偏置功率为负峰值时，所述负直流电压为取所述第二电压值的所述第二状态。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 控制方法和等离子体处理装置

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