申请/专利权人：OCI有限公司

申请日：2020-06-17

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN112210378B

主分类号：C09K13/06

分类号：C09K13/06

优先权：["20190712 KR 10-2019-0084195"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.07.15#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要：本发明涉及一种氮化硅膜蚀刻溶液及其制备方法，更详细地，提供一种如下的氮化硅膜蚀刻溶液及其制备方法，即，在氮化硅膜蚀刻溶液中，由化学式1表示的反式trans结构的化合物在蚀刻条件下增加与氧化硅膜的结合，从而可提高相对于氧化硅膜对氮化硅膜的蚀刻速度。

主权项：1.一种氮化硅膜蚀刻溶液，其特征在于，包含：磷酸水溶液；以及添加剂，其中，上述添加剂包含由下述化学式1表示的反式化合物及化学式1’表示的顺式化合物，化学式1：化学式1’：在上述化学式1和化学式1’中，X1至X3分别独立地选自羟基，R1至R3分别独立地选自氢、C1-C20烷基、C6-C12环烷基、至少包含一个杂原子的C2-C10杂烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、C1-C10卤代烷基、C1-C10氨基烷基、芳基、杂芳基、芳烷基以及卤素，上述添加剂中由上述化学式1表示的反式化合物的含量为50％以上。

全文数据：

权利要求：

百度查询： OCI有限公司 氮化硅膜蚀刻溶液及其制备方法

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