申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2018-05-01

公开（公告）日：2020-01-10

公开（公告）号：CN110678812A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：["20170529 EP 17173276.1"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.09.01#授权;2020.06.26#实质审查的生效;2020.01.10#公开

摘要：一种光刻设备，包括：第一腔室，所述第一腔室包括投影系统，所述投影系统被配置为将图案化辐射束投影到衬底上；第二腔室，所述第二腔室包括衬底台，所述衬底台被构造成保持衬底；在所述第一腔室和所述第二腔室之间延伸的通道，所述通道被配置为接收清洗流体流，所述通道的周边由壁限定；和被配置为冷却所述通道的所述壁的冷却系统。

主权项：1.一种光刻设备，包括：第一腔室，所述第一腔室包括投影系统，所述投影系统被配置为将图案化辐射束投影到衬底上；第二腔室，所述第二腔室包括衬底台，所述衬底台被构造成保持衬底；在所述第一腔室和所述第二腔室之间延伸的通道，所述通道被配置为接收清洗流体的流，所述通道的周边由壁限定；和冷却系统，被配置为冷却所述通道的所述壁。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 光刻设备

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