申请/专利权人：新阳硅密(上海)半导体技术有限公司

申请日：2019-10-23

公开（公告）日：2020-07-31

公开（公告）号：CN211142201U

主分类号：C25D7/12(20060101)

分类号：C25D7/12(20060101);C25D17/00(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.31#授权

摘要：本实用新型公开了一种可调节屏蔽装置，所述可调节屏蔽装置包括：一屏蔽板，所述屏蔽板具有一镂空的圆心部以及若干镂空的圆弧部，所述圆弧部设置在所述圆心部的外围；若干遮挡板，所述遮挡板分别与各所述圆弧部对应，且所述遮挡板相对于所述圆弧部移动从而调节对圆弧部的遮盖面积。通过本实用新型的圆弧部的设置可以保证晶圆镀层厚度的均匀性。并且通过遮挡板可以调节屏蔽板上镂空部位相对于整个阴极工件的位置，从而具有广泛的通用性。

主权项：1.一种可调节屏蔽装置，其特征在于，所述可调节屏蔽装置包括：一屏蔽板，所述屏蔽板具有一镂空的圆心部以及若干镂空的圆弧部，所述圆弧部设置在所述圆心部的外围；若干遮挡板，所述遮挡板分别与各所述圆弧部对应，且所述遮挡板相对于所述圆弧部移动从而调节对圆弧部的遮盖面积。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 可调节屏蔽装置

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