申请/专利权人：浙江安胜科技股份有限公司

申请日：2020-11-30

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112708856A

主分类号：C23C14/32(20060101)

分类号：C23C14/32(20060101);C23C14/50(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.01.28#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：本发明提供了一种真空器皿离子镀工艺，属于离子镀技术领域。它解决了现有技术存在着稳定性差的问题。本真空器皿离子镀工艺包括以下步骤：A、准备：真空电镀装置包括内部为空腔的壳体，在壳体内具有用于放置真空器皿工件的连接架，壳体上具有能开闭的门板，打开门板后将壳体内部清理干净；B、工件放置：将需要处理的真空器皿工件放置在工件架上，然后关闭门板；C、离子镀作业：壳体上连接有金属离子输入器，金属离子输入器作业后，壳体内产生的金属离子附着在真空器皿工件外侧；D、停机取料：真空电镀装置停止作业后，打开门板将工件架上的工件有序取出。本真空器皿离子镀工艺稳定性高。

主权项：1.一种真空器皿离子镀工艺，其特征在于，该工艺包括以下步骤：A、准备：真空电镀装置包括内部为空腔的壳体，在壳体内具有用于放置真空器皿工件的连接架，壳体上具有能开闭的门板，打开门板后将壳体内部清理干净；B、工件放置：将需要处理的真空器皿工件放置在工件架上，然后关闭门板；C、离子镀作业：壳体上连接有金属离子输入器，金属离子输入器作业后，壳体内产生的金属离子附着在真空器皿工件外侧；D、停机取料：真空电镀装置停止作业后，打开门板将工件架上的工件有序取出。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江安胜科技股份有限公司 真空器皿离子镀工艺

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