申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2021-05-07

公开（公告）日：2021-11-19

公开（公告）号：CN113675110A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101);G03F7/16(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/30(20060101)

优先权：["20200514 JP 2020-085176"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.07#实质审查的生效;2021.11.19#公开

摘要：本发明提供一种基板处理装置。使基板处理装置的生产率提高。基板处理装置具备：基板出入部；第1群组的处理部，其对第1状态的基板进行一系列的处理；第2群组的处理部，其对第1状态的基板进行与由第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；第1输送部，其从基板出入部向第1群组的处理部输送第1状态的基板，并从第1群组的处理部向基板出入部输送利用第1群组的处理部而成为了第2状态的基板；以及第2输送部，其从基板出入部向第2群组的处理部输送第1状态的基板，并从第2群组的处理部向基板出入部输送利用第2群组的处理部而成为了第2状态的基板。

主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具备：基板出入部，其从外部接收第1状态的基板，并向外部送出第2状态的基板；第1群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行用于将所述第1状态变为所述第2状态的一系列的处理；第2群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行与由所述第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；第1输送部，其从所述基板出入部向所述第1群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第1群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第1群组的处理部而成为了所述第2状态的基板；以及第2输送部，其从所述基板出入部向所述第2群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第2群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第2群组的处理部而成为了所述第2状态的基板。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置

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