申请/专利权人：凯斯科技股份有限公司

申请日：2022-06-28

公开（公告）日：2023-01-06

公开（公告）号：CN218241781U

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;F26B5/00

优先权：["20210628 KR 10-2021-0083912"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.01.06#授权

摘要：公开了一种基板处理装置。根据一个实施例的基板处理装置，可包括：处理腔室，其包括处理空间和开口面，其中，处理空间用于对基板进行超临界处理工艺，开口面形成于外面，与处理空间相连通的出入口位于开口面；门，其开闭出入口，包括在封闭出入口的状态下覆盖出入面的门面；密封部，其安装于出入面，以出入口封闭的状态为基准，沿出入口的周边对出入面及门面之间的空间进行密封；以及盖部，其以包围密封部的周围的形式安装于出入面，并且在门封闭出入口的过程中，向门方向对密封部进行加压。

主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：处理腔室，其包括处理空间和开口面，其中，处理空间用于对基板进行超临界处理工艺，开口面形成于外面，与处理空间相连通的出入口位于开口面；门，其开闭出入口，包括在封闭出入口的状态下覆盖出入面的门面；密封部，其安装于出入面，以出入口封闭的状态为基准，沿出入口的周边对出入面及门面之间的空间进行密封；以及盖部，其以包围密封部的周围的形式安装于出入面，并且在门封闭出入口的过程中，向门方向对密封部进行加压。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 凯斯科技股份有限公司 基板处理装置

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