申请/专利权人：浙江中科玖源新材料有限公司

申请日：2021-09-30

公开（公告）日：2023-11-07

公开（公告）号：CN113943419B

主分类号：C08G73/10

分类号：C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08;C08K5/18;C08K5/29

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.11.07#授权;2022.02.08#实质审查的生效;2022.01.18#公开

摘要：本发明公开了一种耐高温低CTE聚酰亚胺薄膜，其合成原料包括：二酐单体、二胺单体和交联剂，其中，二胺单体包含吡啶类二胺单体。本发明还公开了上述耐高温低CTE聚酰亚胺薄膜的制备方法，包括如下步骤：在惰性气体氛围中，取二胺单体和二酐单体在有机溶剂中反应得到聚酰胺酸溶液，然后加入交联剂继续反应得到中间溶液；将中间溶液涂布在载体表面，亚胺化得到耐高温低CTE聚酰亚胺薄膜。本发明还公开了上述耐高温低CTE聚酰亚胺薄膜作为光学膜的应用。本发明具有良好的耐高温性、柔韧性，且CTE较低。

主权项：1.一种耐高温低CTE聚酰亚胺薄膜，其特征在于，其合成原料包括：二酐单体、二胺单体和交联剂，其中，二胺单体包含吡啶类二胺单体；吡啶类二胺单体的结构如式I所示： 交联剂为对氨基氯苄、二异氰酸酯中的至少一种；吡啶类二胺单体占二胺单体总量的20-30mol％；二胺单体、交联剂的摩尔比为1:0.2-0.3；二胺单体还包含以下物质中的至少一种：4，4'-二氨基二苯醚、2，2'-双三氟甲基-4，4'-二氨基联苯、1,4-双2-三氟甲基-4-氨基苯氧基苯；二酐单体为4，4'-六氟异丙烯二酞酸酐、4，4'-氧双邻苯二甲酸酐、1，2，3，4-环戊烷四羧酸二酐、1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐中的至少一种。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江中科玖源新材料有限公司 一种耐高温低CTE聚酰亚胺薄膜及其制备方法、应用

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