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【发明公布】一种InAsSb芯片上的GaSb衬底腐蚀液及其腐蚀方法和InAsSb芯片_安徽光智科技有限公司_202311225228.6 

申请/专利权人:安徽光智科技有限公司

申请日:2023-09-21

公开(公告)日:2023-12-26

公开(公告)号:CN117286501A

主分类号:C23F1/30

分类号:C23F1/30;H01L21/306

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.01.12#实质审查的生效;2023.12.26#公开

摘要:本发明涉及腐蚀技术领域,具体是一种InAsSb芯片上的GaSb衬底腐蚀液及其腐蚀方法和InAsSb芯片。本发明提供的腐蚀液为包括三氧化铬、氟化氢和磷酸三种组分的水溶液:所述三氧化铬的质量浓度为3%~8%;所述氟化氢的质量浓度为0.5%~2.5%;所述磷酸的质量浓度为0%~9%。实验表明,本发明所述腐蚀液对GaSb衬底的腐蚀速率为2.6μmmin~5.88μmmin,所述腐蚀液对GaSb衬底和InAsSb芯片的腐蚀速率选择比为247~490,由此可见本发明提供的腐蚀液能够针对带有GaSb衬底的InAsSb芯片,对所述GaSb衬底进行高选择性腐蚀,而对InAsSb芯片几乎没有影响。

主权项:1.一种InAsSb芯片上的GaSb衬底腐蚀液,其特征在于,其为包括三氧化铬、氟化氢和磷酸三种组分的水溶液:所述三氧化铬的质量浓度为3%~8%;所述氟化氢的质量浓度为0.5%~2.5%;所述磷酸的质量浓度为0%~9%。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 安徽光智科技有限公司 一种InAsSb芯片上的GaSb衬底腐蚀液及其腐蚀方法和InAsSb芯片

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