申请/专利权人：合肥清溢光电有限公司

申请日：2023-08-29

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN220584541U

主分类号：G03F1/82

分类号：G03F1/82;G03F1/84

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.12#授权

摘要：本实用新型公开了一种掩模版清洁搭载装置，包括底座、搭载立柱、搭载垫块和支撑立柱；支撑立柱呈平行状设置有若干根；支撑立柱底端与底座上表面一侧边固接，支撑立柱顶端呈倾斜向上延伸并至底座上表面中部位置上方；搭载立柱顶端与支撑立柱顶端固接，搭载立柱底端呈竖直状向下延伸至底座上表面，并与底座上表面固接，且搭载立柱与底座上表面垂直；搭载垫块呈平行状设置有至少两块，并均与底座上表面固接，且靠近搭载立柱远离支撑立柱的侧面设置；本实用新型的掩模版清洁搭载装置，旨在提供以低成本的结构设备实现不同尺寸掩膜版高精度清洁、检查的功能，降低掩膜版被污染、损坏的风险，提高掩膜版产品品质。

主权项：1.一种掩模版清洁搭载装置，其特征在于，包括底座以及设置在所述底座上的搭载立柱、搭载垫块和支撑立柱；所述支撑立柱呈平行状设置有若干根，且呈“一”字排列状固定在底座上表面；支撑立柱底端与底座上表面一侧边固接，支撑立柱顶端呈倾斜向上延伸并至底座上表面中部位置上方；搭载立柱顶端与所述支撑立柱顶端固接，搭载立柱底端呈竖直状向下延伸至底座上表面，并与所述底座上表面固接，且所述搭载立柱与所述底座上表面垂直；所述搭载垫块呈平行状设置有至少两块，并均与所述底座上表面固接，且靠近所述搭载立柱远离所述支撑立柱的侧面设置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 合肥清溢光电有限公司 一种掩模版清洁搭载装置

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