申请/专利权人：郑州磨料磨具磨削研究所有限公司;河南省功能金刚石研究院有限公司

申请日：2023-12-19

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117723529A

主分类号：G01N21/73

分类号：G01N21/73

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明提出了一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法，包括以下步骤：S1：将光谱诊断装置的光纤探头固定在CVD设备的石英观察窗口上，调节光纤探头角度实现光纤探头在沉积台径向不同位置的高精度定位；S2：采集等离子体径向不同位置点处的背景信号和CVD设备中金刚石沉积过程中等离子体径向不同位置点处的光谱信号；S3：识别光谱信号中的特征峰，利用光谱特征峰强度对CVD金刚石沉积过程稳定性进行检测与判定；S4：利用不同离子基团的特征值，对该工艺下CVD金刚石的有效沉积范围和沉积品质进行检测评价。本发明所提出的检测方法方便快捷，能够在沉积反应过程中实现对CVD金刚石沉积稳定性和有效沉积面积的高精度检测方法。

主权项：1.一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：将光谱诊断装置的光纤探头固定在CVD设备的石英观察窗口上，调节光纤探头角度实现光纤探头在沉积台径向不同位置的高精度定位；S2：采集等离子体径向不同位置点处的背景信号和CVD设备中金刚石沉积过程中等离子体径向不同位置点处的光谱信号，得到背景光谱强度Sd与实测光谱强度Sm；S3：利用背景光谱与实测光谱识别光谱信号中的特征峰，利用光谱特征峰强度对CVD金刚石沉积过程稳定性进行检测与判定；S4：利用不同离子基团的特征值，对该工艺下CVD金刚石的有效沉积范围和沉积品质进行检测评价。

全文数据：

权利要求：

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