申请/专利权人：株式会社斯库林集团

申请日：2023-09-13

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747485A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683;H01L21/687;H01L21/02

优先权：["20220921 JP 2022-150757"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明提供一种能够提高清洗后的基板的下表面中央区域清洁度的基板清洗装置及基板清洗方法。基板清洗装置包括：上侧保持装置，对基板的外周端部进行保持；以及下表面刷，与基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗。下表面刷在基板的下表面中央区域的清洗开始时，以从相对于基板的下表面分离的状态与基板的下表面中的第一部分区域接触的方式移动。其后，下表面刷以在基板的下表面上与下表面中央区域接触的方式移动。下表面刷在基板的下表面中央区域的清洗结束时，以从相对于基板的下表面接触的状态与基板的下表面中的第二部分区域分离的方式移动。第一部分区域及第二部分区域中的至少一者不与基板的下表面中央区域重叠。

主权项：1.一种基板清洗装置，包括：第一基板保持部，对基板的外周端部进行保持；清洗用具，与所述基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗；以及相对移动部，使由所述第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具相对地移动，所述相对移动部使由所述第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具中的至少一者移动，以使在所述基板的下表面中央区域的清洗开始时处于和所述基板的下表面分离的状态的所述清洗用具与所述基板的下表面中的第一部分区域接触，且以使在所述基板的所述下表面中央区域的清洗结束时处于与所述基板的下表面接触的状态的所述清洗用具和所述基板的下表面中的第二部分区域分离，且以使在从所述清洗用具与所述基板的下表面接触至分离为止的清洗用具接触期间中的至少一部分期间所述清洗用具与所述基板的所述下表面中央区域接触，所述第一部分区域及所述第二部分区域中的至少一者不与所述基板的所述下表面中央区域重叠。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社斯库林集团 基板清洗装置及基板清洗方法

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