申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-01-22

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN111489986B

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/677

优先权：["20190128 JP 2019-012412","20190729 JP 2019-139113"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2021.11.12#实质审查的生效;2020.08.04#公开

摘要：本发明涉及基片处理装置和基片处理方法。基于时间参数、构成多单元的单元的所需基片停留时间和循环时间，决定多单元中的作为基片的输送目标的单元的个数，以及决定停留循环数，其中，时间参数是，与为了将送入处理区块的基片输送到送出单元所需的主输送装置的输送工序数对应的基片的输送时间、或者通过用包括多单元并且以能够对基片进行多个步骤的处理的方式设置于处理区块的单元组之中的、相同步骤中的可使用单元数除所需基片停留时间而对于各步骤得到的时间中的最大时间。本发明在将单元的所需停留时间彼此不同的多个批次的基片依次输送并进行处理时，能够抑制基片输送装置的负荷来提高装置的处理能力。

主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：处理区块，其从上游侧的单元向下游侧的单元依次输送基片来进行处理；送入送出用输送装置，其在容纳所述基片的承载器与所述处理区块之间交接所述基片，将所述基片送入、送出该处理区块；送出单元，载置由所述送入送出用输送装置从所述处理区块送出的已处理的所述基片；多单元，包括所述处理区块中的所述基片的输送顺序彼此相同的所述送出单元的上游侧的多个单元；和主输送装置，其具有能够彼此独立地相对于各单元进退的多个基片保持部，用于在设置于所述处理区块的输送通路中循环以在单元间交接所述基片，将所述主输送装置在所述输送通路中循环一次的时间设为循环时间，控制部进行第1输送时间表的设定，该第1输送时间表的设定包括如下处理：基于时间参数、构成所述多单元的单元的所需基片停留时间和所述循环时间，决定所述多单元中的作为所述基片的输送目标的单元的个数的处理；和决定停留循环数的处理，该停留循环数是对所述多单元送入基片后至送出该基片为止所述主输送装置循环的次数，其中，所述时间参数是，与为了将送入所述处理区块的基片输送到所述送出单元所需的所述主输送装置的输送工序数对应的基片的输送时间、或者通过用包括所述多单元并且以能够对所述基片进行多个步骤的处理的方式设置于处理区块的单元组之中的、相同步骤中的可使用单元数除该步骤的单元的所需基片停留时间而对于各步骤的时间中的最大时间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和基片处理方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD