申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-02-26

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN111668136B

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/02

优先权：["20190307 JP 2019-042024"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2021.12.28#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要：本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。本发明的基片处理装置包括液处理槽、移动机构、释放部和控制部。液处理槽贮存处理液。移动机构使浸渍于液处理槽中的多个基片移动至比处理液的液面靠上方的位置。释放部向多个基片的从液面露出的部分释放有机溶剂的蒸气。控制部使释放部释放有机溶剂的蒸气的释放流量随着多个基片的上升而变化。由此，在通过使有机溶剂的蒸气与附着有处理液的基片接触而使基片干燥的技术中，能够提高处理液与有机溶剂的置换效率。

主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：贮存处理液的液处理槽；干燥室，其配置在比所述液处理槽靠上方的位置，具有与所述液处理槽连通的内部空间；移动机构，其使浸渍于所述液处理槽中的多个基片移动至比所述处理液的液面靠上方的位置；释放部，其包含配置在所述干燥室内的上部喷嘴和下部喷嘴，所述上部喷嘴释放非活性气体，所述下部喷嘴释放所述非活性气体或有机溶剂的蒸气；和控制部，所述下部喷嘴配置在比所述多个基片的上半部分从所述液面露出结束时的所述多个基片的上端的高度位置低的位置，向所述多个基片的从所述液面露出的部分释放所述有机溶剂的蒸气，所述控制部，在所述多个基片浸渍于所述处理液中的期间，使所述上部喷嘴和所述下部喷嘴释放所述非活性气体，之后，在使所述多个基片从所述液面露出之前，将所述下部喷嘴所释放的气体从所述非活性气体替换为所述有机溶剂的蒸气，之后，一边利用所述移动机构使所述多个基片从所述处理液的所述液面向上方移动，一边使所述释放部释放所述蒸气的释放流量随着所述多个基片的上升而变化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、基片处理方法和存储介质

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