申请/专利权人：芝浦机械电子装置株式会社

申请日：2023-09-26

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117802462A

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54

优先权：["20220930 JP 2022-158194","20230901 JP 2023-142403"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明提供一种可对多个成膜对象物同时进行基于均匀膜厚分布的成膜的成膜装置。实施方式的成膜装置具有：托盘，具有工件抵接面，能够在使工件搭载于保持器的搭载位置与使其从保持器分离的分离位置之间移动；自公转单元，具有保持器抵接面，使搭载于保持器的工件以旋转轴为中心公转，并且随着旋转轴的旋转而使工件以支撑托盘的支撑轴为中心自转；推动器单元，使保持器抵接面与保持器接触分离，在将保持器搭载于搬送体的搭载位置与将其从搬送体分离的分离位置之间移动，并且使托盘在搭载位置与分离位置之间移动；及旋转单元，通过使旋转轴旋转，而使多个托盘在公转的同时自转。

主权项：1.一种成膜装置，其特征在于，包括：成膜部，在具有靶材的成膜室中，通过溅射而对工件进行成膜；搬送体，将搭载有所述工件的保持器，搬送至与所述成膜室相向的位置；托盘，具有与所述工件接触分离的工件抵接面，能够在使所述工件搭载于所述保持器的搭载位置与使所述工件从所述保持器分离的分离位置之间移动；自公转单元，具有与所述保持器接触分离的保持器抵接面，使搭载于所述保持器的所述工件以旋转轴为中心公转，并且随着所述旋转轴的旋转而使所述工件以支撑所述托盘的支撑轴为中心自转；推动器单元，使所述保持器抵接面与所述保持器接触分离，在将所述保持器搭载于所述搬送体的搭载位置与将所述保持器从所述搬送体分离的分离位置之间移动，并且使所述托盘在所述搭载位置与所述分离位置之间移动；以及旋转单元，在通过所述推动器单元而使所述保持器抵接面与所述保持器接触，并将所述托盘移动至所述分离位置而将所述工件收容于所述成膜室的状态下，使所述旋转轴旋转，而使所述托盘公转，并且使所述托盘自转。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 芝浦机械电子装置株式会社 成膜装置

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