申请/专利权人：分子印记公司

申请日：2017-09-14

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117806119A

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00

优先权：["20161202 US 62/429,214"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明涉及在压印光刻工艺中配置光学层。配置光学层的压印光刻方法包括利用图案化模板在衬底的一面上压印具有第一数量级的尺寸的第一特征，同时利用图案化模板在衬底的该面上压印具有第二数量级的尺寸的第二特征，第二特征尺寸确定且布置成在衬底与相邻表面之间限定一间隙。

主权项：1.一种多层可佩戴目镜，包括：衬底；在衬底的一面上的第一波导，所述第一波导包括：功能图案，其中所述功能图案包括在第一位置的具有第一尺寸范围的第一特征；其中，第一特征包括第一衍射光栅，所述第一衍射光栅被构造成投射第一波长范围的光并将虚像聚焦在第一深度平面，其中第一衍射光栅包括第一入耦合光栅并形成第一正交光瞳扩展区和第一出射光瞳扩展区；围绕功能图案的辅助图案，所述辅助图案包括：具有所述第一尺寸范围的附加的第一特征，其中所述附加的第一特征包括抗反射特征；和分别在所述衬底的所述面上与第一位置横向间隔开的第二位置处的具有第二尺寸范围的第二特征，第二尺寸范围比第一尺寸范围至少大一个数量级；和第二波导，所述第二波导沿着第二特征附接到第一波导以在第一波导与所述第二波导之间限定一具有所述第二尺寸范围的间隙，所述第二波导包括第二衍射光栅，所述第二衍射光栅被构造成投射第二波长范围的光并将虚像聚焦在第二深度平面，其中第二衍射光栅包括第二入耦合光栅并形成第二正交光瞳扩展区和第二出射光瞳扩展区。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 分子印记公司 在压印光刻工艺中配置光学层

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