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【发明公布】一种超景深衍射光学元件设计方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202410086643.6 

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日:2024-01-22

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117850031A

主分类号:G02B27/00

分类号:G02B27/00;G02B27/42;G02B5/18

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:一种超景深衍射光学元件设计方法,包括以下步骤:S1、基于物理光学及傅里叶光学理论,建立高光谱成像系统的光场函数,用于指导超景深衍射光学元件设计;S2、针对衍射光学元件DOE,基于选择的基础面形及可优化参数,结合人工智能神经网络设计超景深功能;S3、设计适用于超景深衍射光学元件‑高光谱重建网络端到端协同优化设计的神经网络,实现高光谱成像。该方法能实现具备超景深功能的衍射光学元件设计,所设计元件可应用至高光谱成像系统,实现超景深高光谱成像。

主权项:1.一种超景深衍射光学元件设计方法,其特征在于包括以下步骤:S1、基于物理光学及傅里叶光学理论,建立高光谱成像系统的光场函数;S2、针对DOE,基于选择的基础面形及可优化参数,结合人工智能神经网络设计超景深功能;S3、设计适用于超景深衍射光学元件-高光谱重建网络端到端协同优化设计的神经网络,实现高光谱成像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种超景深衍射光学元件设计方法

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