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【发明授权】发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管_江西兆驰半导体有限公司_202410101775.1 

申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

申请日:2024-01-25

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117637954B

主分类号:H01L33/16

分类号:H01L33/16;H01L33/02;H01L33/14;H01L33/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.09#授权;2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要:本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,涉及半导体光电器件领域。其中,发光二极管外延片依次包括衬底,依次层叠于所述衬底上的N型半导体层、多量子阱层和P型半导体层;所述P型半导体层为周期性结构,周期数为3~25,每个周期均包括依次层叠的第一P型GaN层、第二P型GaN层和二维InSe层;其中,所述第一P型GaN层中GaN为立方闪锌矿结构,所述第二P型GaN层中GaN为六方纤锌矿结构。实施本发明,可提升发光二极管的发光效率,降低其工作电压。

主权项:1.一种发光二极管外延片,包括衬底,依次层叠于所述衬底上的N型半导体层、多量子阱层和P型半导体层;其特征在于,所述P型半导体层为周期性结构,周期数为3~25,每个周期均包括依次层叠的第一P型GaN层、第二P型GaN层和二维InSe层;其中,所述第一P型GaN层中GaN为立方闪锌矿结构,所述第二P型GaN层中GaN为六方纤锌矿结构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江西兆驰半导体有限公司 发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管

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