申请/专利权人：北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司

申请日：2022-09-30

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117866610A

主分类号：C09K11/02

分类号：C09K11/02;C09K11/88;H10K50/115;H10K71/00

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.12#公开

摘要：本公开提供了一种量子点混合物、量子点发光层及其制作方法，属于量子点技术领域。该量子点混合物包括第一量子点本体；第一配体，包括相互连接的第一配位基团和X基团，所述第一配位基团用于与所述第一量子点本体之间形成配位键；所述X基团的结构为‑A‑B，A为亚氨基，B为保护基团；可交联物，包括环氧基团，所述环氧基团为所述可交联物分子结构式的末端基团；其中，在光照条件下，所述X基团在光致生酸剂作用下能够脱去所述保护基团形成氨基；所述环氧基团能够在外界作用下开环与所述X基团脱去所述保护基团形成的氨基产生交联，为量子点发光层能够采用光刻工艺形成提供基础。

主权项：1.一种量子点混合物，其特征在于，包括：第一量子点本体；第一配体，包括相互连接的第一配位基团和X基团，所述第一配位基团用于与所述第一量子点本体之间形成配位键；所述X基团的结构为-A-B，A为亚氨基，B为保护基团；可交联物，包括环氧基团，所述环氧基团为所述可交联物分子结构式的末端基团；其中，在光照条件下，所述X基团在光致生酸剂作用下能够脱去所述保护基团形成氨基；所述环氧基团能够在外界作用下开环与所述X基团脱去所述保护基团形成的氨基产生交联。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 量子点混合物、量子点发光层及其制作方法

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