申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司
申请日:2024-01-15
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117878057A
主分类号:H01L21/77
分类号:H01L21/77;H01L27/12;H01L21/268;H10K59/121
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开
摘要:本申请提供一种阵列基板有源层的制作方法、阵列基板及显示装置,所述阵列基板有源层的制作方法包括:在基板上形成非晶硅层,对所述非晶硅层进行一次或多次激光退火处理得到有源层,所述阵列基板的像素间距为第一长度,所述激光退火处理的激光线束间距为第二长度,至少一次所述激光退火处理的所述第二长度和所述第一长度的最小公倍数小于预设最小分辨长度。本申请提供的阵列基板有源层的制作方法、阵列基板及显示装置,工艺简单,操作方便,成本低,利用人眼视觉特性,在显示产品点屏时可以有效避免用户观察到竖条Mura现象,提高了用户体验,达到了高画质的要求。
主权项:1.一种阵列基板有源层的制作方法,其特征在于,包括:在基板上形成非晶硅层,对所述非晶硅层进行一次或多次激光退火处理得到有源层,所述阵列基板的像素间距为第一长度,所述激光退火处理的激光线束间距为第二长度,至少一次所述激光退火处理的所述第二长度和所述第一长度的最小公倍数小于预设最小分辨长度。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板有源层的制作方法、阵列基板及显示装置
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