申请/专利权人:三菱瓦斯化学株式会社
申请日:2022-08-30
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117882009A
主分类号:G03F7/11
分类号:G03F7/11;C08G73/00;G03F7/26;G03F7/40;H01L21/027
优先权:["20210831 JP 2021-140616"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.04.12#公开
摘要:一种旋涂碳膜形成用组合物,其为用于形成作为光刻用下层膜的旋涂碳膜的组合物,其包含树枝状高分子。
主权项:1.一种旋涂碳膜形成用组合物,其为用于形成作为光刻用下层膜的旋涂碳膜的组合物,其包含树枝状高分子。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 三菱瓦斯化学株式会社 旋涂碳膜形成用组合物、旋涂碳膜形成用组合物的制造方法、光刻用下层膜、抗蚀图案形成方法、及电路图案形成方法
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