申请/专利权人：OCI有限公司

申请日：2019-06-28

公开（公告）日：2020-01-07

公开（公告）号：CN110655924A

主分类号：C09K13/08(20060101)

分类号：C09K13/08(20060101)

优先权：["20180628 KR 10-2018-0074581"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.11.04#授权;2021.07.02#实质审查的生效;2020.01.07#公开

摘要：本发明涉及硅衬底蚀刻溶液，更加详细地，涉及当蚀刻氮化硅膜时，与氧化硅膜相比可提高对氮化硅膜的蚀刻选择比并提高高温稳定性的硅衬底蚀刻溶液。

主权项：1.一种硅衬底蚀刻溶液，其特征在于，包含：磷酸；以及硅添加剂，包含由以下化学式1及化学式2表示的化合物中的至少一种：化学式1：化学式2：R1及R2各自独立地为选自氢、C1-C10烷基、C6-C12环烷基、含有至少一个杂原子的C2-C10杂烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、C1-C10卤代烷基、C1-C10氨基烷基、芳基、杂芳基及芳烷基的官能团，R3为选自氢、C1-C10烷基、C6-C12环烷基、含有至少一个杂原子的C2-C10杂烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、C1-C10卤代烷基、C1-C10氨基烷基、芳基、杂芳基及芳烷基的官能团，X，Y及Z各自独立地为选自氢、硫酸根、磷酸根、醋酸根、卤素及硝基的官能团，在此情况下，X，Y及Z中的至少一种不是氢，n为1至3之间的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： OCI有限公司 硅衬底蚀刻溶液

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