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【发明公布】电离层三维展示方法和装置_北京天工科仪空间技术有限公司_202010462763.3 

申请/专利权人:北京天工科仪空间技术有限公司

申请日:2020-05-27

公开(公告)日:2020-09-15

公开(公告)号:CN111667567A

主分类号:G06T17/00(20060101)

分类号:G06T17/00(20060101);G06T19/20(20110101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.11.24#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要:本申请涉及电离层观测的相关技术领域,尤其涉及一种电离层三维展示方法和装置。其中,电离层三维展示方法包括:获取检测到的电离层数据;对所述电离层数据进行拆分;基于所述拆分的电离层数据和待展示区域,确定插值点的位置;确定所述插值点的电子密度数据:基于所述插值点的位置和电子密度数据,在虚拟地球的表面进行点云渲染,得到电离层三维展示图像。

主权项:1.一种电离层三维展示方法,其特征在于,包括:获取检测到的电离层数据;对所述电离层数据进行拆分;基于所述拆分的电离层数据和待展示区域,确定插值点的位置;确定所述插值点的电子密度数据:基于所述插值点的位置和电子密度数据,在虚拟地球的表面进行点云渲染,得到电离层三维展示图像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京天工科仪空间技术有限公司 电离层三维展示方法和装置

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