【发明公布】CVD处理系统及处理方法_宁波沁圆科技有限公司_202011267840.6 

申请/专利权人：宁波沁圆科技有限公司

申请日：2020-11-13

发明/设计人：张森;费磊

公开（公告）日：2021-02-23

代理机构：北京金咨知识产权代理有限公司

公开（公告）号：CN112391608A

代理人：宋教花

主分类号：C23C16/44(20060101)

地址：315400 浙江省宁波市余姚市三七市镇云山中路28号

分类号：C23C16/44(20060101);C23C16/54(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2021.02.23#公开

摘要：本发明提供一种CVD处理系统及处理方法，所述系统包括：放片子系统、反应腔和取片子系统，所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件，所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间，所述放片传输组件位于所述放片传送腔内，所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔；所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件，所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间，所述取片传输组件位于所述取片传送腔内，所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔。该CVD处理系统避免了由于传输组件、取放片腔或传送腔微粒污染所造成的表面缺陷，提高了产品良品率。

主权项：1.一种CVD处理系统，其特征在于，所述系统包括：放片子系统、反应腔和取片子系统，所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件，所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间，所述放片传输组件位于所述放片传送腔内，所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔；所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件，所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间，所述取片传输组件位于所述取片传送腔内，所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔。

全文数据：

权利要求：

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