申请/专利权人:宁波沁圆科技有限公司
申请日:2020-11-13
公开(公告)日:2021-02-23
公开(公告)号:CN112391608A
主分类号:C23C16/44(20060101)
分类号:C23C16/44(20060101);C23C16/54(20060101)
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2021.03.12#实质审查的生效;2021.02.23#公开
摘要:本发明提供一种CVD处理系统及处理方法,所述系统包括:放片子系统、反应腔和取片子系统,所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件,所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间,所述放片传输组件位于所述放片传送腔内,所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔;所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件,所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间,所述取片传输组件位于所述取片传送腔内,所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔。该CVD处理系统避免了由于传输组件、取放片腔或传送腔微粒污染所造成的表面缺陷,提高了产品良品率。
主权项:1.一种CVD处理系统,其特征在于,所述系统包括:放片子系统、反应腔和取片子系统,所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件,所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间,所述放片传输组件位于所述放片传送腔内,所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔;所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件,所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间,所述取片传输组件位于所述取片传送腔内,所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 宁波沁圆科技有限公司 CVD处理系统及处理方法
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