申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司

申请日：2019-11-06

公开（公告）日：2021-05-07

公开（公告）号：CN112768371A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101);H01L21/02(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.05.25#实质审查的生效;2021.05.07#公开

摘要：本发明实施方式提供了一种晶圆边缘清洗设备及晶圆边缘清洗方法，晶圆边缘清洗设备包括：晶圆载板，用于承载晶圆，晶圆边缘具有至少一层待清洗的膜层；第一清洗单元，用于采用湿法刻蚀工艺清洗晶圆边缘；第二清洗单元，用于采用干法刻蚀工艺清洗晶圆边缘；控制模块，用于基于当前待清洗的膜层的属性，调用与属性相对应的第一清洗单元或第二清洗单元对晶圆边缘进行清洗。将目前对晶圆边缘的清洗设备进行改进，采用干法刻蚀工艺和湿法刻蚀工艺相结合的方式对晶圆边缘进行清洗，对待清洗的膜层进行的具有针对性的清洗。

主权项：1.一种晶圆边缘清洗设备，其特征在于，包括：晶圆载板，用于承载晶圆，所述晶圆边缘具有至少一层待清洗的膜层；第一清洗单元，用于采用湿法刻蚀工艺清洗所述晶圆边缘；第二清洗单元，用于采用干法刻蚀工艺清洗所述晶圆边缘；控制模块，用于基于当前待清洗的膜层的属性，调用与所述属性相对应的所述第一清洗单元或所述第二清洗单元对所述晶圆边缘进行清洗。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长鑫存储技术有限公司 晶圆边缘清洗设备及晶圆边缘清洗方法

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