申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2021-07-21

公开（公告）日：2023-05-26

公开（公告）号：CN116171337A

主分类号：C23C16/505

分类号：C23C16/505

优先权：["20200727 US 16/939,316"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.08.11#实质审查的生效;2023.05.26#公开

摘要：提供了用于在基板上沉积非晶碳膜的方法和技术。在一个示例中，方法包括在第一处理区域中的位于基座上的底层上沉积非晶碳膜。方法进一步包括在第二处理区域中将掺杂剂或惰性物种注入到非晶碳膜中。在一些组合中的注入物种、能量、剂量以及温度可用以增强硬模硬度。方法进一步包括将经掺杂的非晶碳膜图案化。方法进一步包括蚀刻底层。

主权项：1.一种处理底层的方法，包含：在第一处理区域中的位于基座上的底层上沉积非晶碳膜；通过在第二处理区域中将掺杂剂或惰性物种注入到所述非晶碳膜中来形成经掺杂的非晶碳膜，其中所述掺杂剂或所述惰性物种选自碳、硼、氮、硅、磷、氩、氦、氖、氪、氙、铍、锗或其组合，其中在注入所述掺杂剂或所述惰性物种期间的目标温度在约-100摄氏度和约500摄氏度之间；将所述经掺杂的非晶碳膜图案化；以及蚀刻所述底层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 高蚀刻选择性非晶碳膜

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD