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【发明公布】一种铪基铁电场效应晶体管实现的冯诺依曼架构_中国科学院微电子研究所_202310544499.1 

申请/专利权人:中国科学院微电子研究所

申请日:2023-05-15

公开(公告)日:2023-07-25

公开(公告)号:CN116486863A

主分类号:G11C11/22

分类号:G11C11/22

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.08.11#实质审查的生效;2023.07.25#公开

摘要:本发明提供一种铪基铁电场效应晶体管实现的冯诺依曼架构,包括:中央处理器和存储器;存储器包括:主存储器和存储级内存;存储级内存与主存储器通信连接,主存储器与中央处理器通信连接;存储级内存包含有多个第一晶体管,主存储器包含有多个第二晶体管,第一晶体管用于实现存储级内存的存储功能,第二晶体管用于实现主存储器的存储功能;第一晶体管和第二晶体管均为氧化铪基铁电场效应晶体管。本发明能够解决冯诺依曼架构中的存储墙问题。

主权项:1.一种铪基铁电场效应晶体管实现的冯诺依曼架构,其特征在于,包括:中央处理器和存储器;所述存储器包括:主存储器和存储级内存;所述存储级内存与所述主存储器通信连接,所述主存储器与所述中央处理器通信连接;所述存储级内存包含有多个第一晶体管,所述主存储器包含有多个第二晶体管,所述第一晶体管用于实现所述存储级内存的存储功能,所述第二晶体管用于实现所述主存储器的存储功能;所述第一晶体管和所述第二晶体管均为氧化铪基铁电场效应晶体管。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院微电子研究所 一种铪基铁电场效应晶体管实现的冯诺依曼架构

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