申请/专利权人：纽富来科技股份有限公司

申请日：2023-09-20

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117742080A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20220920 JP 2022-149290"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：提供一种能够高精度地计测载台位置并防止描绘精度降低的带电粒子射束描绘装置、带电粒子射束描绘方法及相位差板的调整方法。带电粒子射束描绘装置具备：测长部，使用第一频率及第二频率的激光来计测载台的位置；壁面位移测定部，使用第一频率及第二频率的激光来测定描绘室的壁面位移。测长部具有设置在描绘室的壁面的第一激光干涉仪，检测将在第一激光干涉仪与载台之间往复后的第一频率的激光与在第一激光干涉仪内反射后的第二频率的激光合成并输出第一脉动信号。壁面位移测定部具有设置在描绘室的壁面的第二激光干涉仪，检测将在第二激光干涉仪与描绘室内的固定镜之间往复后的第一频率的激光与在第二激光干涉仪内反射后的第二频率的激光合成并输出第二脉动信号。基于第一脉动信号与第二脉动信号的差量来计算载台的位置。

主权项：1.一种带电粒子射束描绘装置，其特征在于，具备：描绘部，具有在内部设置有载置试样的能够移动的载台的描绘室，向所述试样照射带电粒子射束来描绘图案；激光源，输出第一频率及第二频率的激光；测长部，使用所述第一频率及所述第二频率的激光来计测所述载台的位置；壁面位移测定部，使用所述第一频率及所述第二频率的激光来测定所述描绘室的壁面位移；以及描绘控制部，控制所述描绘部，所述测长部具有设置在所述描绘室的壁面的第一激光干涉仪，检测将在该第一激光干涉仪与所述载台之间往复后的所述第一频率的激光与在该第一激光干涉仪内反射后的所述第二频率的激光合成而得到的第一合成光并输出第一脉动信号，所述壁面位移测定部具有设置在所述描绘室的壁面的第二激光干涉仪，检测将在该第二激光干涉仪与固定于该描绘室内的规定位置的固定镜之间往复后的所述第一频率的激光与在该第二激光干涉仪内反射后的所述第二频率的激光合成而得到的第二合成光并输出第二脉动信号，所述描绘控制部基于所述第一脉动信号与所述第二脉动信号的差量来计算所述载台的位置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 纽富来科技股份有限公司 带电粒子射束描绘装置、带电粒子射束描绘方法及相位差板的调整方法

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