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【发明授权】带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置_纽富来科技股份有限公司_202010118952.9 

申请/专利权人:纽富来科技股份有限公司

申请日:2020-02-26

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN111624857B

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20;G03F9/00;H01J37/304;H01J37/317

优先权:["20190227 JP 2019-034559"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.02#授权;2020.09.29#实质审查的生效;2020.09.04#公开

摘要:一种带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置,实施方式所涉及的带电粒子束描绘方法一边使基板移动一边对其照射带电粒子束,对将上述基板的描绘区域以宽度W分割而成的多个条带的每个依次描绘图案。在该方法中,将针对每个条带一边以设定的条带偏移量在上述条带的宽度方向上使上述条带的基准点偏移并且切换上述基板的移动方向、一边以多重度2n描绘上述多个条带的处理设为1次行程,进行S次上述行程的描绘处理,在上述行程的每个,以设定的行程偏移量在上述条带的宽度方向上使上述行程中的上述条带的基准点偏移而进行描绘,其中,n为1以上的整数,S为2以上的整数。

主权项:1.一种带电粒子束描绘方法,一边使基板移动一边对其照射带电粒子束,对将上述基板的描绘区域以宽度W分割而成的多个条带的每个依次描绘图案,其特征在于,将针对每个条带一边以设定的条带偏移量在上述条带的宽度方向上使上述条带的基准点偏移并且切换上述基板的移动方向、一边以多重度2n描绘上述多个条带的处理设为1次行程,进行S次上述行程的描绘处理,在上述行程的每个,以设定的行程偏移量在上述条带的宽度方向上使上述行程中的上述条带的基准点偏移而进行描绘,其中,n为1以上的整数,S为2以上的整数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 纽富来科技股份有限公司 带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置

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