申请/专利权人：纽富来科技股份有限公司

申请日：2019-07-04

公开（公告）日：2024-03-01

公开（公告）号：CN112020761B

主分类号：H01L21/027

分类号：H01L21/027;G03F7/20;H01J37/147;H01J37/305

优先权：["20180802 JP 2018-146121"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.01#授权;2020.12.18#实质审查的生效;2020.12.01#公开

摘要：在抑制计算量的同时高精度地进行漂移修正。本发明的一个实施方式的带电粒子束描绘装置具备：放射带电粒子束的放射部；调整上述带电粒子束相对于载置于工作台的基板的照射位置的偏转器；根据描绘数据，生成包含每次照射的照射尺寸、照射位置以及粒子束通断时间的照射数据的照射数据生成部；针对上述带电粒子束所要照射的每个预定的区域、或者所要照射的上述带电粒子束的每个预定的照射数，参照多个上述照射数据，基于上述照射尺寸、上述照射位置以及上述粒子束通断时间，算出朝上述基板照射的上述带电粒子束的照射位置的漂移量，并基于该漂移量生成对照射位置偏移进行修正的修正信息的漂移修正部；以及基于上述照射数据以及上述修正信息来控制由上述偏转器产生的偏转量的偏转控制部。

主权项：1.一种带电粒子束描绘装置，具备：放射部，放射带电粒子束；偏转器，调整上述带电粒子束相对于载置于工作台的基板的照射位置；照射数据生成部，根据描绘数据，生成包含每次照射的照射尺寸、照射位置以及粒子束通断时间的照射数据；漂移修正部，针对上述带电粒子束所要照射的每个预定的区域、或者所要照射的上述带电粒子束的每个预定的照射数，参照多个上述照射数据，基于上述照射尺寸、上述照射位置以及上述粒子束通断时间，算出朝上述基板照射的上述带电粒子束的照射位置的漂移量，并基于该漂移量生成对照射位置偏移进行修正的修正信息；以及偏转控制部，基于上述照射数据以及上述修正信息来控制由上述偏转器产生的偏转量。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 纽富来科技股份有限公司 带电粒子束描绘装置以及带电粒子束描绘方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD