申请/专利权人：深圳市普乐华科技有限公司

申请日：2024-01-10

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747286A

主分类号：H01F41/02

分类号：H01F41/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本申请涉及一种纳米晶热处理装置及方法，涉及纳米晶热处理领域，一种纳米晶热处理装置包括内模、两个安装座以及多个挡板，两个所述安装座相对设置，所述挡板一端与一个安装座连接，另一端与另一安装座可拆卸连接，多个所述挡板共同围设形成用以成型纳米晶磁环的成型腔，所述内模位于所述成型腔中，相邻的两个挡板之间留有间隙。本申请中各部件的配合，使得纳米晶磁环的定型热处理和加磁热处理可同步进行，将纳米晶磁环的热处理工艺进行了简化，进而缩短了纳米晶磁环热处理所需的时长，提高了纳米晶磁环热处理作业的效率。

主权项：1.一种纳米晶热处理装置，其特征在于：包括内模1、两个安装座2以及多个挡板3，两个所述安装座2相对设置，所述挡板3一端与一个安装座2连接，另一端与另一安装座2可拆卸连接，多个所述挡板3共同围设形成用以成型纳米晶磁环的成型腔4，所述内模1位于所述成型腔4中，相邻的两个挡板3之间留有间隙。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市普乐华科技有限公司 一种纳米晶热处理装置及方法

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