申请/专利权人：株式会社阿迪泰克工程

申请日：2018-10-31

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117806133A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F9/00

优先权：["20171031 JP 2017-210649"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明的目的是在一对掩模的校准的同时也要求对于基板的校准的两面曝光装置中，有效地解决在基板标记从照相机的视野脱离的状态下基板停止的问题。通过曝光单元2经由配置在夹着被输送系统1从卷拉出并间歇性地进给的基板W的位置处的一对第一第二掩模3、4将光向基板W照射而曝光。在曝光之前，照相机8对第一掩模3的校准标记31、第二掩模4的校准标记41及基板W的校准用开口Wm进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。当输送系统1使基板W停止时照相机8没有摄影到校准用开口Wm的情况下，进行基板W的回送或进给，成为照相机8摄影到校准用开口Wm的状态。

主权项：1.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出而间歇性地进给；一对第一第二掩模，配置在夹着被进给的基板的位置；以及曝光单元，在输送系统使基板停止而校准后，经由各掩模向基板照射光，对基板的两面进行曝光，基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准用开口，第一掩模具有作为校准用的标记的第一掩模标记，第二掩模具有作为校准用的标记的第二掩模标记，设置有能够对第一掩模标记、第二掩模标记及基板的校准用开口进行摄影的照相机，设置有根据来自对第一掩模标记、第二掩模标记及校准用开口进行了摄影的照相机的摄影数据、将第一第二掩模相对于基板的应曝光区域对位的校准机构，具备控制单元，进行如下开口检索，在输送系统使基板停止时照相机未拍摄到基板的校准用开口的情况下，控制输送系统，以规定次数为限度进行规定行程的基板的移动，从而成为照相机拍摄到基板的校准用开口的状态，控制单元为如下单元，以规定次数为限度进行规定行程的移动的结果，在照相机拍摄到基板的校准用开口的全部或一部分的状态时设为开口检索正常结束，控制单元是以在照相机仅拍摄到基板校准用开口的一部分的状态下结束了开口检索时、使基板或照相机移动而使基板的校准用开口完全进入到照相机的视野的方式进行开口缺口消除的单元，控制单元是根据仅拍摄了一部分的校准用开口的图像数据计算出用于使该校准用开口完全进入照相机的视野的移动的方向和距离、并使基板或照相机进行计算出的方向和距离的移动的单元。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社阿迪泰克工程 两面曝光装置及两面曝光方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD