申请/专利权人：中国科学院半导体研究所

申请日：2023-12-29

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117802475A

主分类号：C23C16/18

分类号：C23C16/18;C23C16/30;C23C16/455

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明提供了一种用于半导体外延设备的高效尾气处理系统，外延设备包括生长室部件、尾气抽气系统与其他部件，外延设备用于在生长室部件外延生长镓砷系化合物半导体材料，其特征在于，尾气处理系统包括：管路组件，包括第一管路、第二管路、第三管路与第四管路；尾气处理功能组件，包括过滤罐、真空泵与双磷阱；真空泵，生长室部件、第一管路、过滤罐、第二管路、真空泵、双磷阱与第四管路依次相连；其中，生长室部件输出的尾气经管路组件输送至尾气处理功能组件，尾气处理功能组件对尾气进行冷凝析出和过滤，以及对磷化物进行处理。

主权项：1.一种用于半导体外延设备的高效尾气处理系统，所述外延设备包括生长室部件1、尾气抽气系统与其他部件，所述外延设备用于在生长室部件1外延生长镓砷系化合物半导体材料，其特征在于，所述尾气处理系统包括：管路组件，包括第一管路2、第二管路4、第三管路11与第四管路7；尾气处理功能组件，包括过滤罐3、真空泵5与双磷阱6；真空泵5，所述生长室部件1、第一管路2、过滤罐3、第二管路4、真空泵5、双磷阱6与第四管路7依次相连；其中，所述生长室部件1输出的尾气经所述管路组件输送至所述尾气处理功能组件，所述尾气处理功能组件对所述尾气进行冷凝析出和过滤，以及对磷化物进行处理。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院半导体研究所 一种用于半导体外延设备的高效尾气处理系统

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